製品情報

電解オゾン水製造装置

写真:電解オゾン水製造装置

特徴

・クリーンな超純水電解方式によるオゾン
 水製造原理採用
・オゾン水100mg/L以上の高濃度、オゾン
 水流量80 L/min. 以上も対応可能
・オゾン水濃度、 流量はお客様のニーズ
 合わせて対応可能

・バッチ式洗浄機には高濃度/大流量、枚葉式洗浄機には高濃度/小流量、連続シャワー式には低濃度/大流
 量を推奨
・コンパクトな省スペース設計
・オゾン発生器とブースターポンプの組合わせによる高吐出圧実現
・運転開始より3分で急速立上げ実現



用途

  • シリコンウエハ製造分野:エピ前洗浄、イオン注入前洗浄、平坦化後洗浄、純水殺菌
  • 半導体製造分野:ウエハ受入洗浄、成膜前洗浄、レジスト残渣除去、レジスト除去、純水ライン殺菌、CMP後洗浄
  • LCD製造分野:ガラス基板受入洗浄、成膜前洗浄、純水ライン殺菌


電解式オゾン水製造装置プロセス

図:電解オゾン水製造装置プロセス

標準モデルデータ

機種名 オゾン
水濃度
(mg/L)
オゾン
水流量
(L/min.)
外形寸法
(巾×奥行×高さmm)
質量
(kg)
電源容量
(kVA)
炭酸ガス添加
POW-2010-S 20 10 900×1,000×1,900 650 11.9(3φAC200V) 有/無
POW-6005-S-C 60 5 900×1,000×1,900 700 12(3φAC200V)
POW-10005-SP-C 100 5 1,300×1,300×1,900 1,200 17.1(3φAC200V)

ユーティリティ


1.電力(電圧、周波数の確認)
2.純水(17MΩ・cm以上の超純水。水温25℃以下。含有過酸化水素濃度50ppb以下)
3.冷却水(23℃±3℃)
4.制御エアー(0.5~0.7MPa)
5.熱排気ダクト
6.排水ライン(自然落下または強制排出)


オプション


1.オゾン水昇圧ユニット
2.薬液注入ユニット
3.炭酸ガス添加ユニット
4.節水ユニット


型式記号


型式記号サンプル
a.電解オゾン水製造装置(POW)
b.オゾン水濃度 例:10mg/L→10、20mg/L→20、60mg/L→60
c.オゾン水流量 例:10L/min.→10、20L/min.→20、5L/min.→05
d.半導体製造装置グレード(S)
e.無印→標準、P→ブースターポンプ内蔵



製品に関するお問い合わせ  岡山事業所 環境水処理営業部 TEL 0863-71-3625